Program de dezvoltare pentru artiști 2019

ID program
EU0010002363
ID outline
RO0010000597
Data de finalizare
07 Ianuarie 2019
Tip eveniment
Studiu

Lansat de Banca Europeană de Investiții (BEI), Programului de dezvoltare pentru artiști (ADP) oferă artiștilor europeni din domeniul artelor vizuale o rezidență de șase săptămâni în Luxemburg, permițându-le să își dezvolte practica artistică și să creeze o nouă lucrare (i). În cadrul rezidenței, participanții vor beneficia de mentoratul unui artist de înaltă cla. Artista finlandeză Jorma Puranen va fi mentorul artiștilor în cadrul programului 2019.

 

Cine poate candida

Participanții trebuie să se fi născut după 1 ianuarie 1984 (≤35 de ani);

Cetățeni din Bulgaria, Croația, Cipru, Estonia, Letonia, Lituania sau România;

Persoane fluente în limba engleză.

 

Buget și durată

Institutul BEI va acoperi costurile de transport ale artiștilor către și dinspre Luxemburg (pentru rezidență) și spre și dinspre studioul artistei Jorma Puranen (înainte de începerea rezidenței).

Artiștii vor primi o alocație de 100 de euro (o sută de euro) pe zi pentru a-și acoperi costurile de subzistență în timpul rezidenței și toate sau o parte din costurile lor de producție și vor beneficia de un spațiu de locuit/de lucru.

În plus, la începutul rezidenței, artiștilor li se va acorda o sumă pentru producție de 500 de euro (cinci sute de euro) și, la sfârșitul rezidenței, o taxă de succes de 1 000 de euro (o mie de euro), cu condiția să fi produs o lucrare sau un corp de lucrări.

 

Rezidența din Luxemburg se va desfășura în perioada dintre sfârșitul lunii mai și începutul lunii iulie 2019. La finalizarea rezidenței, BEI își rezervă dreptul să achiziționeze o operă de artă realizată de artiști în timpul rezidenței.

 

Cum poți candida

Candidații trebuie să prezinte:

- CV (în limba engleză);

- Copia scanată a cardului de identitate/pașaportului candidatului care atestă cetățenia uneia dintre țările menționate mai sus;

- O scrisoare de motivație, în limba engleză, care să prezinte ideile pe care candidatul intenționează să le dezvolte în timpul rezidenței (maximum 500 de cuvinte);

- Portofoliu de lucrări vizuale, maximum 8 imagini, care reprezintă cel mai bine arta candidatului (în format PDF, pagini A4);

- Numele și datele de contact a doi evaluatori profesioniști familiarizați cu arta candidatului;

- În email, trebuie să se facă o scurtă referire privind modul în care candidatultul a aflat despre program.

 

Candidaturile trebuie să fie trimise electronic d-nei Delphine Munro (arts@eib.org) și nu trebuie să depășească 12 MB.

 

Termen limită pentru depunerea candidaturilor: 23 ianuarie 2019, miezul nopții (GMT + 1).

Un juriu va selecta candidații pe baza calității artistice a lucrărilor lor, a motivației și a potențialului lor de a valorifica oportunitatea oferită de rezidență și relevanței practicii artistice în cadrul rezidenței în contextul cultural al Institutului BEI.

Candidații selectați vor fi informați cu privire la decizia juriului prin email în martie 2019.

 

Mai multe informații:  https://institute.eib.org/2018/11/call-for-applications-for-the-artists-development-programme-2019-geographical-focus/

 

ID program
EU0010002363
ID outline
RO0010000597
Data de finalizare
07 Ianuarie 2019
Tip eveniment
Studiu
Portalul European pentru tineret
ULTIMELE EVENIMENTE
Perioada:
5 Noiembrie 2019 - 8 Noiembrie 2019
Loc desfăşurare
Irlanda
Perioada:
20 Noiembrie 2019 - 26 Noiembrie 2019
Loc desfăşurare
Letonia
ULTIMELE ştiri
12 August 2019

Concus de eseuri pentru tinerii cu vârsta cuprinsă între 18 și 25 de ani.

12 August 2019

Sunt invitați să participe tineri cu vârsta cuprinsă între 5 și 24 de ani.

Portalul European pentru tineret
ULTIMELE EVENIMENTE
Perioada:
5 Noiembrie 2019 - 8 Noiembrie 2019
Loc desfăşurare
Irlanda
Perioada:
20 Noiembrie 2019 - 26 Noiembrie 2019
Loc desfăşurare
Letonia
ULTIMELE ştiri
12 August 2019

Concus de eseuri pentru tinerii cu vârsta cuprinsă între 18 și 25 de ani.

12 August 2019

Sunt invitați să participe tineri cu vârsta cuprinsă între 5 și 24 de ani.